硅片清洗剂ZHTE-701产品说明书
发表时间：2024年12月24日浏览量：
硅片清洗剂ZHTE-701产品说明书
一、产品介绍
本硅片清洗剂产品是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂，清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，清洗后硅片表面无白班，花斑、腐蚀等不良，能有效提高外延或扩散工序的成品率。
二、产品指标
表 硅片清洗剂ZHTE-701产品指标
三、产品特点
1、清洗除油效果好，洁净度高；
2、对工件表面无腐蚀，不变色；
3、槽液使用寿命长，易维护，不漂油，不返沾油污；
4、无残留，易漂洗；
5、低气味，不腐蚀，无毒，无污染；
四、应用领域
适用于半导体硅片器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
五、注意事项
使用方式：恒温浸泡清洗或超声波清洗。
使用方法：按比例稀释成工作液后，加热至40-60度，恒温浸泡5-10分钟或超声波清洗2-3分钟，对于重污垢工件，延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。
工作液维护：定期检查槽液温度、液位，及时补水及相应比例补加原液；按规定时间定期更换槽液。
六、包装贮运
ZHTE-701硅片清洗剂一般以25kg/200kg塑料桶或按照用户定制包装，应密闭运输、贮存在室温30℃以下的阴凉处，严禁日晒、雨淋，按非危险品规定运输。保存期6个月。
一、产品介绍
本硅片清洗剂产品是针对性去除硅片表面的颗粒、有机物、金属离子等污染物的水基清洗剂，清洗剂中的活性物质可以吸附在硅片表面，使其长期处于易清洗的物理吸附状态，并在表面形成保护层，防止颗粒的二次吸附，清洗后硅片表面无白班，花斑、腐蚀等不良，能有效提高外延或扩散工序的成品率。
二、产品指标
表 硅片清洗剂ZHTE-701产品指标
| 检测项目 | ZHTE-701 |
| 外观（20℃） | 无色至淡黄色透明液体 |
| pH（5%水溶液） | ≥8 |
| 比重（20℃） | 1.067±0.050 |
| 游离碱度/pt | 5±1 |
| COD(配比液 1:200） | ≤1500 |
三、产品特点
1、清洗除油效果好，洁净度高；
2、对工件表面无腐蚀，不变色；
3、槽液使用寿命长，易维护，不漂油，不返沾油污；
4、无残留，易漂洗；
5、低气味，不腐蚀，无毒，无污染；
四、应用领域
适用于半导体硅片器件、薄膜技术中的玻璃和金属表面浸渍、喷淋、超声波的清洗。
五、注意事项
使用方式：恒温浸泡清洗或超声波清洗。
使用方法：按比例稀释成工作液后，加热至40-60度，恒温浸泡5-10分钟或超声波清洗2-3分钟，对于重污垢工件，延长清洗时间或使用多槽多次方式彻底清洗干净。
工作液维护：定期检查槽液温度、液位，及时补水及相应比例补加原液；按规定时间定期更换槽液。
六、包装贮运
ZHTE-701硅片清洗剂一般以25kg/200kg塑料桶或按照用户定制包装，应密闭运输、贮存在室温30℃以下的阴凉处，严禁日晒、雨淋，按非危险品规定运输。保存期6个月。
