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硅片清洗剂ZHTE-702产品说明书

发表时间:2024年12月24日浏览量:

硅片清洗剂ZHTE-702产品说明书
一、产品介绍
本硅片清洗剂产品为双组分产品,A剂主要有钾盐、缓蚀剂、络合剂、助洗剂组成,B剂主要由表面活性剂聚合复配而成。电子级氢氧化钾提供皂化碱度,有聚合高效缓蚀剂、络合剂、助洗剂及表面活性剂提供洗净性,本品对动植物油、矿物油污、悬浮液、碾磨膏的乳化、皂化、洗净性都有很好表现,对金属离子有很强剥离、络合、洗净效果,同时产品不含钙、镁、铁、铜、铅等金属离子,环保好,清洗力强。
二、产品指标
 表  硅片清洗剂ZHTE-702产品指标
检测项目 ZHTE-702
A组分 B组分
外观(20℃) 无色至淡黄色透明透明液体 无色至淡黄色透明透明液体
pH(5%水溶液) >12 6~8
密度(20℃) 1.140±0.050 1.042±0.050
游离碱度/pt 60±5 23±3
COD(配比液 1:200) ≤300 ≤2000
 
三、产品特点
1、高浓缩双组分产品,尤其适合清洗重污垢硅片;
2、不含钙、镁、铁、铜、铅等金属离子,环保性好;
3、低泡产品,超声波清洗线使用,不会有泡沫溢出;
4、除钾、钠离子以外的金属离子含量不高于50PPm,能满足高精度的IT要求。
四、应用领域
该系列硅片清洗剂广泛应用于光伏,电子等行业硅片清洗。双组份硅片清洗剂适用范围广,A、B组份配合使用,洗涤能力更易调节,洗涤剂消耗更合理。
五、使用工艺
1、在清洗槽中先加3/4纯净水;
2、如果在手动线使用,建议A、B液等量使用,每100升槽液中加入1~2公斤A型硅片清洗剂和1~2公斤B型硅片清洗剂,尽量减少中间添加,为保证清洗效果,建议清洗到10000片以上硅片时彻底更换。
3、当遇到磨光碾磨膏硅片及回收悬浮液切割的硅片时应适当增加药剂量,当然在保证硅片成品率的情况下也可适当减少添加量;
4、将纯净水加至操作液位,加温到所需要温度,即可以使用;硅片在清洗过程中尽可能减少裸露在空气中的时间,以防止产生花片。
六、注意事项
1、线切后的晶棒不可以沾水,如不能及时清洗,最好先存放在悬浮液或清洗剂中(全部浸没)。线切后晶棒一旦上架清洗,须马上处理,在整个清洗过程中不可让硅片自然干躁。
2、为保证硅片清洗的洁净度,在脱胶前的喷淋冲洗时间最好控制在30分钟以上。脱胶时必须保持硅片润湿,亦不可自然干燥。
3、清洗人员在整个清洗过程中不得直接接触硅片,必须佩带超薄橡胶手套,以免产生指纹印。清洗液在排放时只要中和、凝絮、沉降等等简单处理,本产品不含重金属、磷。
七、包装贮运
ZHTE-702硅片清洗剂一般以25kg/200kg塑料桶或按照用户定制包装,应密闭贮存在室温30℃以下的阴凉处,严禁日晒、雨淋,按非危险品规定运输。保存期6个月。
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